Plasma Sources Science & Technology SCIE

Plasma Sources Science & Technology(中文译名等离子源科技杂志)是一本专注于物理,物理：流体与等离子体领域的国际期刊，致力于为全球PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS领域的研究者提供一个高质量的学术交流平台。该期刊ISSN：0963-0252，E-ISSN：1361-6595，出版周期Bimonthly。在中科院的大类学科分类中，该期刊属于物理与天体物理范畴，而在小类学科中，它主要涵盖了PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS这一领域。编辑部诚挚邀请广大物理与天体物理领域的专家学者投稿，内容可以涵盖物理与天体物理的综合研究、实践应用、创新成果等方面。同时，我们也欢迎学者们就相关主题进行简短的交流和评论，以促进学术界的互动与合作。为了保证期刊的质量，审稿周期预计为 约6.0个月 。在此期间，编辑部将对所有投稿进行严格的同行评审，以确保发表的文章具有较高的学术价值和实用性。

值得一提的是，Plasma Sources Science & Technology近期并未被列入国际期刊预警名单，这意味着其学术质量和影响力得到了广泛认可。该期刊为物理与天体物理领域的学者提供了一个优质的学术交流平台。因此，关注并投稿至Plasma Sources Science & Technology无疑是一个明智的选择，这将有助于提升您的学术声誉和研究成果的传播。

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