Ieee Transactions On Device And Materials Reliability(IEEE Transactions on Device and Materials Reliability杂志)是由Institute of Electrical and Electronics Engineers Inc.出版社主办的一本以工程技术-ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC为研究方向,OA非开放(Not Open Access)的国际优秀期刊。旨在帮助发展和壮大工程技术及相关学科的各个方面。该期刊接受多种不同类型的文章。本刊出版语言为English,创刊于2001年。自创刊以来,已被SCIE(科学引文索引扩展板)等国内外知名检索系统收录。该杂志发表了高质量的论文,重点介绍了ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC在分析和实践中的理论、研究和应用。
ISSN:1530-4388
E-ISSN:1558-2574
出版商:Institute of Electrical and Electronics Engineers Inc.
出版语言:English
出版地区:UNITED STATES
出版周期:Quarterly
是否OA:未开放
是否预警:否
创刊时间:2001
年发文量:72
影响因子:2.5
研究类文章占比:97.22%
Gold OA文章占比:24.52%
H-index:63
出版国人文章占比:0.14
出版撤稿文章占比:
开源占比:0.05...
文章自引率:0.05
《Ieee Transactions On Device And Materials Reliability》是一份国际优秀期刊,为工程技术领域的研究人员和从业者提供科学论坛。该期刊涵盖了工程技术及相关学科的所有方面,包括基础和应用研究,使读者能够获得来自世界各地的最新、前沿的研究。该期刊欢迎涉及工程技术领域的原创理论、方法、技术和重要应用的稿件,并刊载了涉及工程技术领域的相关栏目:综述、论著、述评、论著摘要等。所有投稿都有望达到高标准的科学严谨性,并为推进该领域的科研知识传播做出贡献。该期刊最新CiteScore值为4.8,最新影响因子为2.5,SJR指数为0.436,SNIP指数为1.148。
CiteScore指标的应用非常广泛,以期刊的引用次数为基础评估期刊的影响力。它可以反映期刊的学术影响力和学术水平,是学术界常用的期刊评价指标之一。
CiteScore | SJR | SNIP | CiteScore 排名 | ||||||||||||||||
4.8 | 0.436 | 1.148 |
|
CiteScore是由Elsevier公司开发的一种用于衡量科学期刊影响力的指标,以期刊的引用次数为基础评估期刊的影响力。这个指标是由Scopus数据库支持,以四年为一个时段,连续评估期刊和丛书的引文影响力的。具体来说,CiteScore是计算某期刊连续三年发表的论文在第四年度的篇均引用次数。CiteScore和影响因子(IF)有所不同。例如,在影响因子的计算中,分子是来自所有文章的引用次数,包括编辑述评、读者来信、更正信息和新闻等非研究性文章,而分母则不包括这些非研究性文章。然而,在CiteScore的计算中,分子和分母都包括这些非研究性文章。因此,如果这些非研究性文章比较多,由于分母较大,相较于影响因子,CiteScore计算出来的分数可能会偏低。此外,CiteScore的引用数据来自Scopus数据库中的22000多个期刊,比影响因子来自Web of Science数据库的11000多个期刊多了一倍。
按JIF指标学科分区 | 收录子集 | 分区 | 排名 | 百分位 |
学科:ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC | SCIE | Q2 | 165 / 352 |
53.3% |
学科:PHYSICS, APPLIED | SCIE | Q2 | 87 / 179 |
51.7% |
按JCI指标学科分区 | 收录子集 | 分区 | 排名 | 百分位 |
学科:ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC | SCIE | Q3 | 186 / 354 |
47.6% |
学科:PHYSICS, APPLIED | SCIE | Q3 | 99 / 179 |
44.97% |
WOS(JCR)分区是由科睿唯安公司提出的一种新的期刊评价指标,分区越靠前一般代表期刊质量越好,发文难度也越高。这种分级体系有助于科研人员快速了解各个期刊的影响力和地位。JCR将所有期刊按照各个学科领域进行分类,然后以影响因子为标准平均分为四个等级:Q1、Q2、Q3和Q4区。这种设计使得科研人员可以更容易地进行跨学科比较。
中科院SCI期刊分区是由中国科学院国家科学图书馆制定的。将所有的期刊按照学科进行分类,以影响因子为标准平均分为四个等级。分区越靠前一般代表期刊质量越好,发文难度也越高。
2023年12月升级版
Top期刊 | 综述期刊 | 大类学科 | 小类学科 |
否 | 否 | 工程技术 3区 |
ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC
工程:电子与电气
PHYSICS, APPLIED
物理:应用
3区
3区
|
2022年12月升级版
Top期刊 | 综述期刊 | 大类学科 | 小类学科 |
否 | 否 | 工程技术 3区 |
ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC
工程:电子与电气
PHYSICS, APPLIED
物理:应用
3区
3区
|
2021年12月旧的升级版
Top期刊 | 综述期刊 | 大类学科 | 小类学科 |
否 | 否 | 工程技术 3区 |
ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC
工程:电子与电气
PHYSICS, APPLIED
物理:应用
3区
3区
|
2021年12月基础版
Top期刊 | 综述期刊 | 大类学科 | 小类学科 |
否 | 否 | 工程技术 4区 |
ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC
工程:电子与电气
PHYSICS, APPLIED
物理:应用
4区
4区
|
2021年12月升级版
Top期刊 | 综述期刊 | 大类学科 | 小类学科 |
否 | 否 | 工程技术 3区 |
ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC
工程:电子与电气
PHYSICS, APPLIED
物理:应用
3区
3区
|
2020年12月旧的升级版
Top期刊 | 综述期刊 | 大类学科 | 小类学科 |
否 | 否 | 工程技术 3区 |
PHYSICS, APPLIED
物理:应用
ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC
工程:电子与电气
3区
4区
|
Ieee Transactions On Device And Materials Reliability(中文译名IEEE Transactions on Device and Materials Reliability杂志)是一本专注于工程技术,工程:电子与电气领域的国际期刊,致力于为全球ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC领域的研究者提供一个高质量的学术交流平台。该期刊ISSN:1530-4388,E-ISSN:1558-2574,出版周期Quarterly。在中科院的大类学科分类中,该期刊属于工程技术范畴,而在小类学科中,它主要涵盖了ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC这一领域。编辑部诚挚邀请广大工程技术领域的专家学者投稿,内容可以涵盖工程技术的综合研究、实践应用、创新成果等方面。同时,我们也欢迎学者们就相关主题进行简短的交流和评论,以促进学术界的互动与合作。为了保证期刊的质量,审稿周期预计为 较慢,6-12周 。在此期间,编辑部将对所有投稿进行严格的同行评审,以确保发表的文章具有较高的学术价值和实用性。
值得一提的是,Ieee Transactions On Device And Materials Reliability近期并未被列入国际期刊预警名单,这意味着其学术质量和影响力得到了广泛认可。该期刊为工程技术领域的学者提供了一个优质的学术交流平台。因此,关注并投稿至Ieee Transactions On Device And Materials Reliability无疑是一个明智的选择,这将有助于提升您的学术声誉和研究成果的传播。
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投稿咨询机构 | 发文量 |
INDIAN INSTITUTE OF TECHNOLOGY SYSTEM (IIT... | 23 |
IMEC | 15 |
CENTRE NATIONAL DE LA RECHERCHE SCIENTIFIQ... | 14 |
STMICROELECTRONICS | 10 |
TECHNISCHE UNIVERSITAT WIEN | 9 |
NATIONAL TSING HUA UNIVERSITY | 8 |
NATIONAL YANG MING CHIAO TUNG UNIVERSITY | 8 |
COMMUNAUTE UNIVERSITE GRENOBLE ALPES | 7 |
GLOBALFOUNDRIES | 7 |
CHINESE ACADEMY OF SCIENCES | 6 |
国家 / 地区 | 发文量 |
USA | 52 |
CHINA MAINLAND | 51 |
India | 50 |
Taiwan | 35 |
France | 20 |
Italy | 18 |
Belgium | 15 |
Austria | 14 |
Japan | 13 |
GERMANY (FED REP GER) | 12 |
期刊引用数据 | 引用次数 |
IEEE T ELECTRON DEV | 167 |
IEEE T NUCL SCI | 116 |
MICROELECTRON RELIAB | 100 |
IEEE T DEVICE MAT RE | 93 |
IEEE ELECTR DEVICE L | 69 |
APPL PHYS LETT | 59 |
J APPL PHYS | 44 |
IEEE T COMP PACK MAN | 24 |
IEEE J SOLID-ST CIRC | 23 |
IEEE T POWER ELECTR | 23 |
期刊被引用数据 | 引用次数 |
IEEE T ELECTRON DEV | 127 |
IEEE T DEVICE MAT RE | 93 |
MICROELECTRON RELIAB | 88 |
IEEE ACCESS | 47 |
IEEE T NUCL SCI | 37 |
IEEE ELECTR DEVICE L | 36 |
IEICE ELECTRON EXPR | 35 |
IEEE T POWER ELECTR | 31 |
J MATER SCI-MATER EL | 31 |
ELECTRONICS-SWITZ | 30 |
文章引用数据 | 引用次数 |
A First-Principles Study of the SF6 Decomp... | 23 |
Understanding BTI in SiC MOSFETs and Its I... | 9 |
Comparative Thermal and Structural Charact... | 9 |
Output-Power Enhancement for Hot Spotted P... | 8 |
Rapid Solder Interconnect Fatigue Life Tes... | 7 |
Study of Long Term Drift of Aluminum Oxide... | 7 |
Impacts of Process and Temperature Variati... | 6 |
Comparative Study of Reliability of Ferroe... | 6 |
A Compact and Self-Isolated Dual-Direction... | 6 |
A Review on Hot-Carrier-Induced Degradatio... | 6 |
若用户需要出版服务,请联系出版商:IEEE-INST ELECTRICAL ELECTRONICS ENGINEERS INC, 445 HOES LANE, PISCATAWAY, USA, NJ, 08855-4141。