Journal Of Vacuum Science & Technology A(真空科学与技术学报杂志)是由AVS Science and Technology Society出版社主办的一本以材料科学-MATERIALS SCIENCE, COATINGS & FILMS为研究方向,OA非开放(Not Open Access)的国际优秀期刊。旨在帮助发展和壮大材料科学及相关学科的各个方面。该期刊接受多种不同类型的文章。本刊出版语言为English,创刊于1983年。自创刊以来,已被SCIE(科学引文索引扩展板)等国内外知名检索系统收录。该杂志发表了高质量的论文,重点介绍了MATERIALS SCIENCE, COATINGS & FILMS在分析和实践中的理论、研究和应用。
ISSN:0734-2101
E-ISSN:1520-8559
出版商:AVS Science and Technology Society
出版语言:English
出版地区:UNITED STATES
出版周期:Bimonthly
是否OA:未开放
是否预警:否
创刊时间:1983
年发文量:333
影响因子:2.4
研究类文章占比:97.60%
Gold OA文章占比:27.03%
H-index:100
出版国人文章占比:0.03
出版撤稿文章占比:
开源占比:0.27...
文章自引率:0.1034...
《Journal Of Vacuum Science & Technology A》是一份国际优秀期刊,为材料科学领域的研究人员和从业者提供科学论坛。该期刊涵盖了材料科学及相关学科的所有方面,包括基础和应用研究,使读者能够获得来自世界各地的最新、前沿的研究。该期刊欢迎涉及材料科学领域的原创理论、方法、技术和重要应用的稿件,并刊载了涉及材料科学领域的相关栏目:综述、论著、述评、论著摘要等。所有投稿都有望达到高标准的科学严谨性,并为推进该领域的科研知识传播做出贡献。该期刊最新CiteScore值为5.1,最新影响因子为2.4,SJR指数为0.569,SNIP指数为0.957。
CiteScore指标的应用非常广泛,以期刊的引用次数为基础评估期刊的影响力。它可以反映期刊的学术影响力和学术水平,是学术界常用的期刊评价指标之一。
CiteScore | SJR | SNIP | CiteScore 排名 | ||||||||||||||||
5.1 | 0.569 | 0.957 |
|
CiteScore是由Elsevier公司开发的一种用于衡量科学期刊影响力的指标,以期刊的引用次数为基础评估期刊的影响力。这个指标是由Scopus数据库支持,以四年为一个时段,连续评估期刊和丛书的引文影响力的。具体来说,CiteScore是计算某期刊连续三年发表的论文在第四年度的篇均引用次数。CiteScore和影响因子(IF)有所不同。例如,在影响因子的计算中,分子是来自所有文章的引用次数,包括编辑述评、读者来信、更正信息和新闻等非研究性文章,而分母则不包括这些非研究性文章。然而,在CiteScore的计算中,分子和分母都包括这些非研究性文章。因此,如果这些非研究性文章比较多,由于分母较大,相较于影响因子,CiteScore计算出来的分数可能会偏低。此外,CiteScore的引用数据来自Scopus数据库中的22000多个期刊,比影响因子来自Web of Science数据库的11000多个期刊多了一倍。
按JIF指标学科分区 | 收录子集 | 分区 | 排名 | 百分位 |
学科:MATERIALS SCIENCE, COATINGS & FILMS | SCIE | Q3 | 13 / 23 |
45.7% |
学科:PHYSICS, APPLIED | SCIE | Q3 | 96 / 179 |
46.6% |
按JCI指标学科分区 | 收录子集 | 分区 | 排名 | 百分位 |
学科:MATERIALS SCIENCE, COATINGS & FILMS | SCIE | Q3 | 12 / 23 |
50% |
学科:PHYSICS, APPLIED | SCIE | Q2 | 88 / 179 |
51.12% |
WOS(JCR)分区是由科睿唯安公司提出的一种新的期刊评价指标,分区越靠前一般代表期刊质量越好,发文难度也越高。这种分级体系有助于科研人员快速了解各个期刊的影响力和地位。JCR将所有期刊按照各个学科领域进行分类,然后以影响因子为标准平均分为四个等级:Q1、Q2、Q3和Q4区。这种设计使得科研人员可以更容易地进行跨学科比较。
中科院SCI期刊分区是由中国科学院国家科学图书馆制定的。将所有的期刊按照学科进行分类,以影响因子为标准平均分为四个等级。分区越靠前一般代表期刊质量越好,发文难度也越高。
2023年12月升级版
Top期刊 | 综述期刊 | 大类学科 | 小类学科 |
否 | 否 | 材料科学 3区 |
MATERIALS SCIENCE, COATINGS & FILMS
材料科学:膜
PHYSICS, APPLIED
物理:应用
3区
3区
|
2022年12月升级版
Top期刊 | 综述期刊 | 大类学科 | 小类学科 |
否 | 否 | 材料科学 2区 |
MATERIALS SCIENCE, COATINGS & FILMS
材料科学:膜
PHYSICS, APPLIED
物理:应用
3区
3区
|
2021年12月旧的升级版
Top期刊 | 综述期刊 | 大类学科 | 小类学科 |
否 | 否 | 材料科学 3区 |
MATERIALS SCIENCE, COATINGS & FILMS
材料科学:膜
PHYSICS, APPLIED
物理:应用
3区
3区
|
2021年12月基础版
Top期刊 | 综述期刊 | 大类学科 | 小类学科 |
否 | 否 | 工程技术 4区 |
MATERIALS SCIENCE, COATINGS & FILMS
材料科学:膜
PHYSICS, APPLIED
物理:应用
4区
4区
|
2021年12月升级版
Top期刊 | 综述期刊 | 大类学科 | 小类学科 |
否 | 否 | 材料科学 3区 |
MATERIALS SCIENCE, COATINGS & FILMS
材料科学:膜
PHYSICS, APPLIED
物理:应用
3区
3区
|
2020年12月旧的升级版
Top期刊 | 综述期刊 | 大类学科 | 小类学科 |
否 | 否 | 材料科学 2区 |
MATERIALS SCIENCE, COATINGS & FILMS
材料科学:膜
PHYSICS, APPLIED
物理:应用
2区
3区
|
Journal Of Vacuum Science & Technology A(中文译名真空科学与技术学报杂志)是一本专注于材料科学:膜,工程技术领域的国际期刊,致力于为全球MATERIALS SCIENCE, COATINGS & FILMS领域的研究者提供一个高质量的学术交流平台。该期刊ISSN:0734-2101,E-ISSN:1520-8559,出版周期Bimonthly。在中科院的大类学科分类中,该期刊属于材料科学范畴,而在小类学科中,它主要涵盖了MATERIALS SCIENCE, COATINGS & FILMS这一领域。编辑部诚挚邀请广大材料科学领域的专家学者投稿,内容可以涵盖材料科学的综合研究、实践应用、创新成果等方面。同时,我们也欢迎学者们就相关主题进行简短的交流和评论,以促进学术界的互动与合作。为了保证期刊的质量,审稿周期预计为 一般,3-6周 。在此期间,编辑部将对所有投稿进行严格的同行评审,以确保发表的文章具有较高的学术价值和实用性。
值得一提的是,Journal Of Vacuum Science & Technology A近期并未被列入国际期刊预警名单,这意味着其学术质量和影响力得到了广泛认可。该期刊为材料科学领域的学者提供了一个优质的学术交流平台。因此,关注并投稿至Journal Of Vacuum Science & Technology A无疑是一个明智的选择,这将有助于提升您的学术声誉和研究成果的传播。
多年来,我们专注于期刊投稿服务,能够为您分析推荐目标期刊。凭借多年来丰富的投稿经验和专业指导,我们有效助力提升录用几率。点击以下按钮即可免费咨询。
投稿咨询机构 | 发文量 |
UNITED STATES DEPARTMENT OF ENERGY (DOE) | 58 |
CENTRE NATIONAL DE LA RECHERCHE SCIENTIFIQ... | 30 |
UNITED STATES DEPARTMENT OF DEFENSE | 26 |
LINKOPING UNIVERSITY | 25 |
UNIVERSITY OF ILLINOIS SYSTEM | 24 |
UNIVERSITY OF CALIFORNIA SYSTEM | 20 |
CEA | 18 |
UNIVERSITY OF TEXAS SYSTEM | 17 |
UNIVERSITY SYSTEM OF MARYLAND | 17 |
LAM RESEARCH CORPORATION | 16 |
国家 / 地区 | 发文量 |
USA | 368 |
Japan | 77 |
GERMANY (FED REP GER) | 61 |
South Korea | 56 |
France | 44 |
Sweden | 33 |
CHINA MAINLAND | 31 |
England | 29 |
Finland | 26 |
Netherlands | 26 |
期刊引用数据 | 引用次数 |
J VAC SCI TECHNOL A | 658 |
J APPL PHYS | 549 |
APPL PHYS LETT | 448 |
THIN SOLID FILMS | 363 |
PHYS REV B | 338 |
SURF COAT TECH | 277 |
CHEM MATER | 221 |
APPL SURF SCI | 202 |
J ELECTROCHEM SOC | 168 |
J VAC SCI TECHNOL B | 141 |
期刊被引用数据 | 引用次数 |
J VAC SCI TECHNOL A | 658 |
THIN SOLID FILMS | 321 |
SURF COAT TECH | 303 |
APPL SURF SCI | 280 |
JPN J APPL PHYS | 253 |
J APPL PHYS | 217 |
J PHYS CHEM C | 201 |
VACUUM | 185 |
CHEM MATER | 155 |
ACS APPL MATER INTER | 149 |
文章引用数据 | 引用次数 |
Review Article: Stress in thin films and c... | 72 |
Status and prospects of plasma-assisted at... | 26 |
Practical guides for x-ray photoelectron s... | 23 |
Functional model for analysis of ALD nucle... | 19 |
Review Article: Catalysts design and synth... | 16 |
Paradigm shift in thin-film growth by magn... | 14 |
Review Article: Atomic layer deposition fo... | 14 |
Atomic layer deposition of silicon-based d... | 13 |
Review Article: Crystal alignment for high... | 12 |
Vapor-deposited octadecanethiol masking la... | 11 |
若用户需要出版服务,请联系出版商:A V S AMER INST PHYSICS, STE 1 NO 1, 2 HUNTINGTON QUADRANGLE, MELVILLE, USA, NY, 11747-4502。